Seramik Püskürtme Hedefleri

• Cu Arka Plakalı 4N ZrO2 Püskürtme Hedefi

  Destek plakalı zirkonyum dioksit püskürtme hedeflerimiz, yüksek-saflıkta zirkonyum dioksit malzeme kullanılarak üretilir ve metal bir destek plakasına güvenli bir şekilde bağlanır; bu tasarım...

  Daha
• Cu Arka Plakalı ZrC Püskürtme Hedefi

  Bakır destek plakalı Zirkonyum Karbür (ZrC) püskürtme hedeflerimiz, yüksek-saflıkta ZrC hedef malzemesi ile bakır destek arasında sağlam bir bağa sahiptir. Bu tasarım mükemmel termal ve elektrik...

  Daha
• Ta %5 Katkılı ZrC Püskürtme Hedefi

  Zirkonyum Karbürün atomik yüzde 5 oranında Tantal ile hassas katkılanması, hedef malzemenin yüksek-sıcaklık direncini, termal şok direncini ve korozyon direncini önemli ölçüde artırır. Yüksek...

  Daha
• 4N IGZO Püskürtme Hedefi

  4N IGZO püskürtme hedeflerimiz daha istikrarlı ve verimli püskürtme performansı sağlar. Üst düzey ekran ve yarı iletken uygulamaları için uzmanlaşmıştır ve üstün elektron hareketliliğinin ve...

  Daha
• Cu Arka Plakalı 4N HfO2 Hedefi

  Bakır Destekli 4N HfO₂ Püskürtme Hedefi %99,99 saflıkta hafniyum oksit malzemesini kullanır. Bakır bir destekle entegre edilmiş olup mükemmel termal iletkenlik sunar ve optik kaplama, yarı iletken...

  Daha
• %2 Ti Hedefi ile Katkılı 4N HfO2

  %2 Ti-katkılı HfO₂ püskürtme hedefi, %2 titanyum ile hassas bir şekilde katkılanmış, yüksek-saflıkta bir hafniyum oksit alt tabakası kullanılarak üretilir. Bileşimsel tekbiçimliliği ve yüksek...

  Daha
• 4N HfO2 Püskürtme Hedefi

  4N Yüksek-Saflıkta Hafniyum Dioksit Püskürtme Hedefi (%99,99 Saflık)—optik kaplamalar, yarı iletkenler ve hassas elektroniklerdeki uygulamalar için uygundur. Yüksek yoğunluklu, düzgün bileşimli ve...

  Daha
• B4C Püskürtme Hedefi

  Yüksek-saflıkta bor karbür hammaddeleri kullanan bu ürün, olağanüstü sertlik ve sağlam termal kararlılığa sahiptir; bu da onu yarı iletken imalatı, optik kaplamalar ve aşınmaya-dirençli filmlerin...

  Daha
• Özelleştirilmiş HfC Parçacıkları

  Özelleştirilmiş HfC Parçacıklarının Tanımı HfC parçacıkları tipik olarak hafniyum dioksitin (HfO₂) karbon ile yüksek sıcaklıklarda (1900–2300 derece) inert veya indirgeyici bir atmosferde...

  Daha
• Kalay Oksit (SnO2) Püskürtme Hedefi

  Kalay oksit hedef (SnO2), önemli bir inorganik metal olmayan malzemedir. Benzersiz fiziksel ve kimyasal özellikleri nedeniyle birçok yüksek teknoloji alanında önemli bir rol oynar. Başlıca...

  Daha
• Tantalum Oksit (Ta2O5) Püskürtme Hedefi

  Tantalum Oksit Püskürtme Hedefi, yarı iletken, kimyasal buhar biriktirme (CVD), fiziksel buhar biriktirme (PVD) görüntüleme ve optik uygulamalarda kullanılabilir. Rekabetçi fiyatlarla yüksek...

  Daha
• Titanyum Oksit (TiO2) Püskürtme Hedefi

  Titanyum dioksit (TiO2), örneğin boyalarda en yaygın kullanılan beyaz pigmenttir. Yüksek parlaklığa ve çok yüksek bir kırılma indisine (rutil için 2.609) sahiptir.

  Daha