Ürün Açıklaması
Yüksek saflıkta nikel-vanadyum alaşımı hedefi gümüş-beyaz metalik parlaklığa sahiptir, yoğunluk: 6.11g/cm3, erime noktası 1910 derece, kaynama noktası 3407 derecedir. Yarı iletken alanındaki en önemli ince film püskürtme alaşımlarından biridir. Saf Ni için gereken kimyasal, elektriksel ve optik özelliklere sahiptir ve ayrıca ferromanyetik olmaması avantajına sahiptir. Ferromanyetik olmayan özellikleri nedeniyle yüksek hızlı magnetron püskürtme ekipmanlarında kullanımı kolaydır.
|
Öğe: |
NiV alaşımı |
|
Saflık: |
3N 3N5 |
|
Şekil: |
Düzlemsel hedef; Hedefi döndür |
|
Minimum Sipariş Miktarı: |
1 parça |
|
Paket: |
IATA, DOT paketleme spesifikasyonuna uygun üç katlı vakum paketleme veya argon gazı koruması |
Şartname
Boyut: D152.4X6mm, talep üzerine özelleştirilebilir.
Şekil: düz hedef, dönen hedef, özel şekilli özelleştirme
Proses akışı Malzeme Hazırlama - Eritme - Kimyasal Analiz - Dövme - Haddeleme - Tavlama - Metalografik Muayene - İşleme - Boyutsal Muayene - Temizleme - Son Muayene - Paketleme
Başvuru
Esas olarak SiO2 ve SiN gibi dielektrik katmanları biriktirmek için reaktif magnetron püskürtmede kullanılır. Önemli işlevsel ince film malzemeleri olarak iyi sertlik, optik, dielektrik özellikler ve aşınma direncine sahiptirler. Silisyum hedeflerin korozyon direnci, optik ve mikroelektronik alanlarında geniş uygulama beklentilerine sahiptir ve şu anda dünya çapında işlevsel bir malzeme olarak yaygın olarak kullanılmaktadır. Şu anda nikel vanadyum hedefleri ince film biriktirme, dekorasyon, yarı iletkenler, ekranlar, LED ve fotovoltaik cihazlar, işlevsel kaplamalar ve diğer optik bilgi depolama alanı endüstrileri, otomotiv camı ve mimari cam gibi cam kaplama endüstrileri, optik iletişimler vb. alanlarda kullanılmaktadır.
Popüler Etiketler: nikel vanadyum (niv) püskürtme hedefi, Çin nikel vanadyum (niv) püskürtme hedefi tedarikçileri, fabrika
