İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedefi
İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedefi

İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedefi

Rekabetçi fiyatlarla yüksek kalitede İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedefleri işliyoruz. Tam adı indiyum galyum çinko oksit hedefi olan IGZO püskürtme hedefi, dört element içerir: indiyum (In), galyum (Ga), çinko (Zn) ve oksijen (O).
Soruşturma göndermek
Ürün Açıklaması

 

Rekabetçi fiyatlarla yüksek kalitede İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedefleri işliyoruz. Tam adı indiyum galyum çinko oksit hedefi olan ve dört element içeren IGZO püskürtme hedefi: indiyum (In), galyum (Ga), çinko (Zn) ve oksijen (O). IGZO, amorf silisyumdan (-Si) daha yüksek elektron hareketliliğine sahip yeni bir yarı iletken malzeme türüdür. IGZO, ekran paneli çözünürlüğünü iyileştirmek ve büyük ekranlı OLED TV'leri mümkün kılmak için yeni nesil yüksek performanslı ince film transistörlerinde (TFT'ler) kanal malzemesi olarak kullanılır.

 

Başvuru

 

IGZO püskürtme hedefleri, genellikle yakıt hücresi, dekorasyon, yarı iletken, ekran, LED ve fotovoltaik cihazlar, cam kaplama vb. için ince film biriktirme amacıyla kullanılır. IGZO ince filmlerinin uygulamaları arasında şeffaf iletken oksit filmler, LED ekran, MEMS cihazları vb. yer alır.

 

Özellikler

 

Disk, dikdörtgen, sütun, basamak ve özel şekil gibi farklı şekillerdeki İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedeflerimiz. Dairesel hedefler için tipik çaplar 1 inç, 2 inç, 3 inç, 4 inç veya 50mm, 60mm, 80mm, 100mm vb.'dir. Tipik kalınlıklar 0,125 inç ve 0,25 inç veya 3 mm, 4 mm, 5 mm, 6 mm vb.'dir.

Püskürtme hedeflerimiz talep üzerine bakır destek plakasıyla birleştirilebilir. İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedefleri için farklı saflık, şekil ve boyutlar da özel olarak yapılabilir. Bir teklif için bize sorunuzu gönderebilirsiniz.

 

Hammadde seçiminden sıcak pres sinterlemesinin sıcaklık, basınç ve süresinin kontrolüne kadar, özel üretim sürecini sıkı bir şekilde takip ediyoruz, böylece bitmiş seramik püskürtme hedefleri yüksek saflık, yüksek yoğunluk, lekeler ve çatlaklar olmadan düzgün yüzey rengi özelliklerine sahip oluyor, son kullanıcı PVD işlemi sırasında sabit aşınma oranları ve yüksek saflıkta ve homojen ince filmler elde edebiliyor.

 

İndiyum Galyum Çinko Oksit Püskürtme Hedefi

Saflık: %99,99;

Üretim Yöntemi: Sıcak pres sinterleme

Mevcut boyutlar:

Dairesel: Çap=1", 2", 3" ve 4", diğer boyutlar özelleştirilebilir

Dikdörtgen: Uzunluk=3mm ve 6mm

 

Popüler Etiketler: indiyum galyum çinko oksit (igzo) püskürtme hedefi, Çin indiyum galyum çinko oksit (igzo) püskürtme hedefi tedarikçileri, fabrika