PVD Kaplama Malzemesi

• Bor (B) Püskürtme Hedefi

  Bor püskürtme hedefi, bor ile aynı özelliklere sahiptir. Bor, boraks için kullanılan Arapça 'buraq' kelimesinden türeyen bir kimyasal elementtir. "B", borun kanonik kimyasal sembolüdür. Bor...

  Daha
• Alüminyum Çinko Oksit (AZO) Püskürtme Hedefi

  AZO hedefi, tam adı çinko oksit alüminyum hedefi, özel katkılı bir yarı iletken malzemedir. Özellikle, genellikle ZnO:Al olarak ifade edilen çinko oksit (ZnO) ve alüminyumdan (Al) oluşan bir...

  Daha
• Barium Titanat (BaTiO3) Püskürtme Hedefi

  Baryum titanat, optoelektronik uygulamalarda ve 7,000 kadar yüksek bir dielektrik sabiti değerine sahip kapasitörlerde dielektrik seramik olarak kullanılan kristal bir katıdır. Polikristalin...

  Daha
• Bor Nitrür (BN) Püskürtme Hedefi

  Bor nitrür (BN), nitrojen atomları ve bor atomlarından oluşan bir kristaldir. Genellikle siyah, kahverengi veya koyu kırmızıdır. Sfalerit yapıya, iyi termal iletkenliğe sahiptir ve sertliği...

  Daha
• Bor Karbür (B4C) Püskürtme Hedefi

  Bor Karbür: 19. yüzyılda metal borür araştırmalarının bir yan ürünü olarak keşfedildi ve 1830'lara kadar bilimsel olarak incelenmedi. Bor nitrür, elmas, fulleren bileşikleri ve elmas monolitlerden...

  Daha
• Seryum Oksit (CeO2) Püskürtme Hedefi

  Seryum oksit, kimyasal formülü CeO2 olan, açık sarı veya sarı-kahverengi toz halindeki inorganik bir maddedir. Yoğunluk 7.13g/cm3, erime noktası 2397 derece, suda ve alkalide çözünmez, asitte az...

  Daha
• Hafniyum Oksit (HfO2) Püskürtme Hedefi

  Zirkonyum dioksit olarak da bilinen zirkonyum (ZrO2), çok önemli bir yüksek performanslı seramik malzemedir. Yüksek erime noktası, yüksek eğilme mukavemeti ve kimyasal kararlılığı nedeniyle...

  Daha
• İndiyum Oksit (In2O3) Püskürtme Hedefi

  İndiyum oksit, In2O3 moleküler formülüne sahip bir oksittir. Saf ürün, ısıtıldığında kırmızımsı kahverengiye dönen beyaz veya açık sarı amorf bir tozdur. İndiyum oksit, geniş bant aralığı, düşük...

  Daha
• İndiyum Kalay Oksit (ITO) Püskürtme Hedefi

  ITO hedef malzemesi, İndiyum Kalay Oksit, önemli bir şeffaf iletken malzemedir. İnce film hazırlama alanında, ITO hedefleri elektronik ve optoelektronik cihazlarda temel bir hammadde olarak yaygın...

  Daha
• Silisyum Oksit (SiO2) Püskürtme Hedefi

  Modern teknolojide yaygın olarak kullanılan bir malzeme olan silikon dioksit, mükemmel fiziksel ve kimyasal özellikleri nedeniyle yaygın ilgi görmüştür. Özellikle magnetron püskürtme...

  Daha
• İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedefi

  Rekabetçi fiyatlarla yüksek kalitede İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) Püskürtme Hedefleri işliyoruz. Tam adı indiyum galyum çinko oksit hedefi olan IGZO püskürtme hedefi, dört element içerir:...

  Daha
• Silisyum Nitrür (Si3N4) Püskürtme Hedefi

  Silisyum nitrür püskürtme hedefi, bir tür nitrür seramik püskürtme hedefidir. Si3N4, son derece sert ve nispeten kimyasal olarak inert olan yüksek erime noktalı bir seramik malzemedir. Si3N4, toz...

  Daha